单选题 对于一个短沟道MOS场效应晶体管,沟道长度为50nm,如果漏端的电压由0.1V增加到1V,阈值电压将会( )这是由于( )效应引起的。

A、 增加、窄沟道效应
B、 减少、沟道长度调制效应
C、 减少、速度饱和效应
D、 减少、漏致势垒降低
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单选题 在非平衡态时,一般情况下,____载流子的准费米能级偏离费米能级很大。

A、n型
B、p型
C、多数
D、少数

单选题 在Si材料中掺入P,则引入的杂质能级____。

A、在禁带中线处
B、靠近导带底
C、靠近价带顶
D、以上都不是

单选题 对应于n型半导体,电子为 ____。

A、多子
B、少子
C、中子
D、不确定

单选题 假设一个硅P+N结,当外加正偏压时,其扩散电流( )漂移电流,外加反向偏压时,其扩散电流( )漂移电流。

A、小于,小于
B、小于,大于
C、大于,小于
D、大于,大于

单选题 杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中,当温度升高时,电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是____,____。

A、变大,变小
B、变小,变大
C、变小,变小

单选题 非平衡电子的扩散电流密度的方向是( )

A、流密度Sn的方向
B、电子扩散方向
C、电子浓度梯度方向
D、无法确定

单选题 假设一个硅材料的PN+单边突变结,若施加一正向偏压,所形成的正向导通电流主要由( )区的( )向( )区的( )形成的电流主导。

A、N区,电子,P区,扩散
B、N区,电子,P区,漂移
C、P区,空穴,N区,扩散
D、P区,空穴,N区,漂移

单选题 半导体中载流子迁移率的大小主要决定于( )

A、复合机构
B、散射机构
C、晶体结构
D、能带结构