单选题 集成电路制造最核心的工艺是（）

单选题 集成电路即是将各种电子器件直接制备到半导体晶片上，并用导线连接，以实现相应功能的系统。下列哪种元件是不能做在集成电路中的？

单选题 下列哪一项不属于集成电路制造的平面工艺（）。

单选题 超净间是半导体制造的基本环境保障，超净间按每立方英尺大于0.5μm的微粒数目来分级。下列超净间级数中清洁程度最高的是？

单选题 首先在衬底上涂胶并光刻，然后再制备金属薄膜，在有光刻胶的地方，金属薄膜形成在光刻胶上，而没有光刻胶的地方，金属薄膜就直接形成在衬底上，当使用溶剂去除衬底上的光刻胶时，不需要的金属就随着光刻胶的溶解而脱落在溶剂中，而直接形成在衬底上的金属部分则保留下来形成图形。上述过程描写的是哪一种工艺？

单选题 硅中掺杂砷元素后会成为（）

单选题 10级无尘室的要求是：

单选题 化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）是（）工艺，光刻是（）工艺。